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システム

 

豊富なミヤチのシステムラインアップ!お客様のご要望にお応えいたします!

サンプル実験を承りますので弊社に是非御用命下さい。

 

 

 

 

 

アモルファス・シリコン(a-Si)、化合物(CIGS)系、色素増感、有機薄膜などの太陽電池、及びタッチパネル等のFPDに使用される透明電極(ITO、FTO)、金属電極、太陽電池の発電層(a-Si等)のパターンをレーザを用いてスクライビング加工するための装置です。 独自の特殊光学技術を駆使した“トップハットビーム”と自動装置化のノウハウを融合し、均一且つ超精密なスクライブ・ラインを可能にしています。

画像処理技術を用いた位置決めも加工精度に大きく寄与しています。 タクトの短縮は言うまでも無く、加工におけるお客様の優先ファクターに応じて適確な(ソリューション)装置をご提供いたしております。

  • 矩形ビームで美しいスクライブ・ラインを実現
  • 様々なワークや加工条件に対応した最速加工を実現
  • 気流に配慮した集塵機能
  • 広い加工エリアとワーク全域に渡る均一且つ高精度なスクライブが可能
  • 高い位置決め精度

 

 

 

 

 

   


型     式 ML-SC58 シリーズ
スクライブ幅

最小30μm 〜

対象基板寸法

100×100 〜 1200×1600 (mm)

(その他のサイズにも対応出来ますのでご相談下さい。)

レーザ種類 基本波レーザ、SHGレーザ

 

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ハイブリッドIC(HIC)や実装基板上にある抵抗体をレーザでトリミングすることにより、電気特性を調整するファンクショントリミング装置です。

  • トリミングに最適なレーザ発振器(基本波、SHG)が選択可能
  • ファイバレーザによる高品質加工が可能
  • メンテナンスフリーな完全空冷式レーザ発振器と容易に交換可能なLDモジュール搭載
  • レーザ同軸型画像アライメントシステムによる高精度な位置決めが可能
  • フレキシブルプラットホームにより、ロードアンロード機能追加や、裏面プロービングなど、お客様のご要望に合わせたシステム構築が可能

 

   

                                             【ワーク投入口】

 


型     式

MS-TR2873(チップ抵抗トリミング用)

MS-TR4873(ファンクショントリミング用)

トリミング範囲

□80mm (※光学系条件により最適な物をご提供申し上げます。)

XYステージ

ACサーボ駆動(オプション:フルクローズド制御

X軸ストローク:130mm Y軸ストローク:300mm

位置分解能 5μm 位置再現性 ±5μm)

プローブユニット

プローブガード上下

オプション:両面プロービング
DCユニット

32CH

256CHまで増設可
抵抗測定範囲

0.01Ω〜1GΩ

20ms/16.7ms(高精度モード)

5μs(高速モード)

オプション

・θテーブル

・両面プロービング

・カメラ増設

・パワーメータ

・XYステージフルクローズド制御

・プローブガード

・DCスキャナ増設

 

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本装置はデバイスへのダメージが少ないSHGレーザを搭載。ウエハ照射面で、ほとんどレーザ光が吸収されることで、回路面へのダメージを大幅に低減します。対応ウエハは6、8、12インチ(150、200、300mm)のウエハサイズに対応。
ガルバノスキャナーはフルデジタル式を採用し、高精度のマーキングを実現します。
また、空冷タイプ(LD励起式)のレーザマーカを搭載し、メンテナンスが容易で、ランニングコストを低減します。ウエハの反り対策として、ガラス吸着ステージやオートフォーカス機能オプションが御座います。
その他、レーザのパワーフィードバックやID読み取り等、豊富なオプションも取り揃えております。

  • 完全空冷式LD励起ファイバカップリングSHGレーザマーカ
  • 6、8、12インチ(150、200、300mm)のウエハサイズに対応
  • 高精度補正マーキング
  • 高品質なブラックマーキングとホワイトマーキング
  • ウエハの反り対策オプション完備(ガラス吸着ステージ、オートフォーカス機能)

      

   

                                                    【操作画面】

 

 

    

           【ウエハサンプル】        【ブラックマーキング】      【ホワイトマーキング】

                            (ヘアラインを溶融)     (強めのパルスで蒸発)

 


型   式 MS-WL-6891(6〜8インチ対応)
MS-WL-8291(8〜12インチ対応)
装置寸法 2200(W)×1763(D)×1800(H) mm (1600kg)
対象ウェハサイズ

12インチ: FOUP × 1

8インチ : 全自動 (オープンカセット) × 1

6インチ : 半自動 (テーブルへのマニュアルセット)

厚み/反り 0.3〜2mm (オプション〜6mm)
マーキング検査 自動 (白/黒 対応)
マーキング位置精度 ±50μm以内
マーキングの仕様 ホワイト/ブラック マーキング

 

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主に薄膜太陽電池の加工に使用され、基板の外周(4辺の縁部)の全層を除去し、電気的に絶縁する装置です。
サンドブラストと比較し @マスキング工程不要、A洗浄工程不要、Bマイクロクラックの可能性が非常に小さい、C日常の消耗品の削減、といった点で非常にコストエフェクティブです。
世界的に見て急速にレーザによる装置に置き換わっており、コストパフォーマンスを見直される際に検討すべきアイテムです。
矩形 “トップハット”ビームによりラップ率を抑えた加工の美しい、高速デリーションが可能。

スループットが短時間である事は言うまでも無く、加工におけるお客様の優先ファクターに応じて適確な装置をご提供いたしております。 なお、単結晶・多結晶・タンデム式などの結晶系(バルク)シリコン太陽電池のエッジアイソレーション用についてもご提供できます。

  • 矩形ビームで高速且つきれいな加工で信頼性のある絶縁を実現
  • 気流を配慮した集塵機能
  • 広い加工エリアとワーク全域に渡る均一且つ高精度なデリーションが可能
  • 高い位置決め精度(画像処理)

      

   

 


使用レーザ 基本波レーザ
対象パネルサイズ(最大) 1,400 x 1,100mm
ビーム走査方法 ガントリーステージまたはガントリーステージとスキャナの併用
デリーション後の抵抗値 > 2,000MΩ @ 250VC
デリーション速度 最高2,500mm/秒

 

(上記仕様はデモ機のもので、実際の装置はお客様のワークサイズ、材質により最適な仕様でご提供申し上げます。)

 

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本装置は、FPD(LCD、PDP)基板や薄膜太陽電池などで使用する素ガラスへ「トレサビリティ」や「工程管理」を目的とした2Dコードや文字をガラス内面へマーキングを行う装置です。
SHGレーザまたはTHGレーザによる、ガラス内面のインナーマーキングであり、パーティクルが全く発生しないクリーンなマーキングとなります。
本システムは、上流からコンベア搬送される基板を当装置のコンベアで受け取り、マーキング(2Dコード&文字)と2Dコード読取を行い、下流コンベアへ搬出いたします。
また、2台の主要コンポーネントによる同時並列処理により、基板の位置決めや基板への2Dコード・文字列のマーキング、2Dコードの読取照合、基板の搬入出等の一連動作を行います。

  • マルチレーザヘッドと基板搬入出動作の並列処理化による、高スループット
  • マーキング直後の読み取り照合機能で信頼性を確保
  • 無発塵マーキング
  • 前後工程の処理が不要
  • レーザヘッド毎に独立したオートフォーカス機構で安定したマーキングが可能

      

       


レーザ種類 SHGレーザまたはTHGレーザ
マーキング範囲 Φ30mm
スポット径 Φ5μm
対象基板 サイズ:〜第8世代基板、厚み:0.7mm 〜
タクトタイム 50秒(第8世代基板の4面取り単板を2ヘッドで処理した場合)
マーキング位置精度 200μm
上下流装置 コンベア
焦点合わせ オートフォーカス

 

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透明ガラスの表面、又は裏面に形成された薄膜をレーザにより除去し、文字・二次元コード等の

IDのマーキングを行う装置です

  • マルチレーザヘッド方式により高スループット
  • レーザビームとの同軸型、画像アライメントシステムによる

    ソフトウエア アライメント
  • 貼り合わせ基板内部へのマーキングが可能
 

対象基板寸法 〜第8世代(厚み0.4×1〜1.1×2mm)
タクトタイム 200s(G8、30面取り、2ヘッドの場合)
マーキング位置精度 80μm
上下流装置 コンベア又はロボット
装置寸法 3000(W)×6500(D)×3000(H)mm (第8世代の場合)

 

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各種ウエハ(シリコンウエハ、サファイア基板、化合物ウエハ)に文字や、

二次元コード等のIDのレーザマーキングを行う装置です

 

・ソフトマーキング : SHGレーザ使用

 シリコンウエハの表面のみを溶融させるので、マーキング時に

 パーティクルが発生しません。(無発塵マーキング)

 

・ハードマーキング : 基本波レーザ使用

 シリコンウエハ表面を掘り下げるマーキングです。

 深掘りマーキングのため、パーティクルが発生しますが、

 視認性に優れており、洗浄・研磨後にも認識可能です。

  • スモールフットプリントを実現
  • 高精細のマーキングが可能
  • 高スループットに対応

 

                            【ホワイトマーキング】                            【ブラックマーキング】

           

                          φ70μm 深さ2.5μm                  φ60μm 深さ100μm

 

      【装置内部】                     【操作画面】

  

                       ※クリックすると拡大画面が見られます。


対象ウエハサイズ

12インチ(2カセットFOUP)4、5、6、8インチ対応可能
マーキングの仕様

ソフト/ハードマーキング

マーキング位置精度 ± 200μm(オプション±75μm)
タクトタイム 150WPH(5×9ドット、12文字)

 

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JEDECトレイに収納されたICパッケージにレーザマーキングする装置です。

  • 対象ICパッケージ種類により基本波、SHG、THGレーザが搭載可能
  • トレイポケット内のICパッケージを画像検出、有効ICへのマーキングが可能
  • 位置検出機能(オプション)による高精度な位置情報により複数個まとめエリアマーキング可能
  • マーキング後の画像検査、マーキングされた文字の検査
  • リードスキュー・コープラ等の検査も出来ます (オプション)
  • 高スループット対応のためのデュアルステージ対応
  • トレイ内完全良品排出機能(不良品・良品の詰め替え機能オプション有り)
  • 集塵機装置内蔵

      

            


対象パッケージ TSOP,TSSOP,TQFP,BGA,CSP,WL-CSP
装置寸法 2000(W)×1440(D)×1750(H) mm
ローダアンローダ JEDECトレイ各20枚
集塵機能 装置内蔵
画像検査機能 前認識、後認識有り(総裁についてはご相談要)
バーコード ロット管理機能(標準)
管理サーバ連携 オプションにて対応可

 

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ダイシングテープに貼られたダイシング済みIC(CSP/WL−CSP)パッケージをピックアップし 半田ボール、パッケージの外観検査とマーク検査等、各種テストを行いエンボステープに収納する装置です。

  • 直行ガイド機構主体の装置であり、安心感ある装置
  • 画像検査の充実
  • 2D:表裏外観、チッピング、キズ、半田ボール径・位置、つぶれ

      

            


対象パッケージ CSP、WL-CSP
対象パッケージサイズ 0.6mm〜6.0mm
タクトタイム 0.5〜0.9sec/個
対象ウェハサイズ 5〜8インチ
装置寸法

TSM-X : 1340(W)×1315(D)×1800(H) mm

TRH     : 1850(W)×1220(D)×1750(H) mm

テープ幅対応 ウェハマガジン(25段)
スポット除電機能 各幅対応はチェンジキットにて対応
バーコード 静電気対策(オプション)
NG分類 ロット管理機能(オプション)
トレイユニット対応 トレイへの分類
ディテーピング機能 対応可(オプション)
スパイラルリール 対応可(オプション)

 

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レーザ光により、ICのモールド樹脂パッケージのダムバリ、ゲートバリ、フラッシュバリ等を除去する装置です。

  • 非接触でバリ取りを行いますので、変形しやすいリードフレームなどに有効
  • レーザ加工は、水や研磨材を使用しないドライな加工ですので、小型化、低ランニングコスト化が可能
  • バリの種類に応じてレーザ発振機を選択可能
  • 画像処理により高精度のバリ取りが可能

      

   


装置寸法 約1200(W)×1800(D)×1600(H) mm
レーザ種類

基本波レーザ:厚バリ

SHGレーザ:薄バリ

集塵機

風量3.5m3/min、静圧1.76kPa

レーザ照射面付近に集塵用ダクト設置

 

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ハードディスク自動組立装置等で長年培った技術は精密部品の洗浄や、精密位置決め技術等を駆使し、様々な部品の組立や電子部品等の実装技術に活かされています。

  • 自動車部品の製造などに要する自動機に適しています。
  • コア技術のご紹介(最適なソリューションをご提供できます)
  • 1) 画像処理技術(各種画像処理システムの実績あり)
  •   
  • 2) 各社各種のロボット利用技術(デンソー、三菱、安川、FUNUC、ヤマハ、IAI等)
  • 3) PLC利用技術(三菱、オムロン、安川、トヨプック等)
  • 4) 洗浄技術(純水超音波洗浄、溶剤洗浄)
  • 5) プロービング技術(プリント基板検査装置の実績)
  • 6) 金型技術(半導体封止金型、半導体T/F金型)
  • 7) 低発塵、ESD対策

    

製作実績
HDD自動組立ライン
プリズム搭載装置
電子ペーパー組立ライン
洗浄装置
半導体後加工装置
点火プログコイル組立装置
パワステ用バルブ組立装置金型技術
ABSバルブ自動組立装置
ワイパーブレード次号組立ライン

 

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モータの供給から抵抗溶接機によるヒュージング、モータの搬出まで、一連の工程を全自動で行なう装置です。

  • モータの供給からヒュージング後の搬出までの完全自動化が可能
  • 加圧力と溶け込み量を制御し、安定したヒュージングが可能
  • セグメント毎に加工条件(電流・電圧・通電時間・加圧力・溶け込み量)の保存が可能
 

対象モータ寸法 コア径ø30mm以上のモータ
タクト 78s(30セグメントの場合)
上下流装置 ロボット
装置寸法 1000(W)×700(D)×1600(H)mm

 

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コンパクティング装置は、撚り線の端末を加熱・加圧成型して固めます。

ハーネス等の端子と撚り線の接合時にばらけないで接合ができます。

  • 細い線径でも対応可能 (最小0.8sqから可能)
  • ご希望の撚り線の線径に合わせた電極を作成
  • 2本同時にカシメる装置も製作可能

  

 

 

                                                                                                    撚り線を加熱しカシメている様子

【アプリケーション】

           

         

          銅撚り線の端末例            1.25sq 銅(Snメッキ)の端末例         ハーネス端子との接合例

                                       ※コンパクティングの後工程

 


推奨線径範囲

0.8sq〜5.5sq ※0.8sq以下、5.5sq以上はご相談下さい。
使用溶接電源 交流式溶接電源、インバータ式溶接電源

 

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Liイオンバッテリーなどの二次電池の缶のシール溶接や集電用外部端子の溶接装置です。

※装置詳細は弊社営業マンまでお問い合せ下さい。

 

 

      角形電池ケース封止レーザ溶接装置 特長

  • X-Yテーブル移動タイプ(ワーク移動タイプ)
  • 材質:SUS-SUS、アルミーアルミ

 

      電池防爆弁レーザ溶接装置 特長

  • 円弧補間の精度がよい X-Yロボット
  • 真空吸着治具の搭載
  • 材質:アルミーアルミ

   

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