ミヤチテクノス ホーム | 製品紹介 > システム

ミヤチテクノス株式会社

| English | ミヤチテクノス |
サイト内検索
| お問い合わせ | ミヤチテクノス |
  • | ホーム | ミヤチテクノス |
  • | 企業情報 | ミヤチテクノス |
  • | IR情報 | ミヤチテクノス |
  • | 製品情報 | ミヤチテクノス |
  • | サポート | ミヤチテクノス |

| 製品紹介| ミヤチテクノス |

| レーザー溶接装置 | ミヤチテクノス |
| レーザー加工機 | ミヤチテクノス |
| 抵抗溶接機器 | ミヤチテクノス |
| システム | ミヤチテクノス |
| 業界別アプリケーション | ミヤチテクノス |
| ミヤチの技術力 | ミヤチテクノス |

ミヤチテクノスのシステムには、培った溶接技術や加工ノウハウが詰まっています。「レーザ溶接装置」「レーザ加工機」「抵抗溶接機器」を使用したシステムはもちろん、それらを組み合わせたシナジー効果で、ワンランク上のシステムをご提供いたします。

お引き合い ビフォアーサービス製作 お引き渡し アフターサービス

 

基本波とSHGレーザ加工機の選択ができ、高品質なソフトマーキング・ 

ハードマーキングが可能です。

野田工場にデモ機導入。テスト依頼承ります!                    

シリコンウエハに文字や、二次元コード等のIDのレーザマーキングを

行う装置です

 

・ソフトマーキング : SHGレーザ使用

 シリコンウエハの表面のみを溶融させるので、マーキング時に

 パーティクルが発生しません。

 

・ハードマーキング : 基本波レーザ使用

 シリコンウエハ表面を掘り下げるマーキングです。

 深掘りマーキングのため、パーティクルが発生しますが、

 視認性に優れており、洗浄・研磨後にも認識可能です。

  • スモールフットプリントを実現
  • 高精細のマーキングが可能
  • 高スループットに対応

 

                            【ソフトマーキング】                            【ハードマーキング】

           

                            φ70μm 深さ2.5μm                   φ60μm 深さ100μm

 

      【装置内部】                     【操作画面】

  

                       ※クリックすると拡大画面が見られます。


対象ウエハ 12インチ(2カセットFOUP) 6、8インチ対応可能
マーキングの仕様

ソフトマーキング:φ70μm、深さ2.5μm 

 

ハードマーキング:φ60μm、深さ最大100μm

加工精度 ± 200μm(オプション±75μm)
生産能力 150WPH(5×9ドット、12文字)
装置寸法、重量 1400(W)×2033(D)×2000(H)mm、1200kg

 

薄膜の高品質・高速レーザ加工が可能なスクライバー装置!

西日本サービスセンターにデモ機導入。テスト依頼承ります!      

薄膜スクライバー装置は、主に薄膜型太陽電池(TFPV : thin-film photovoltaics)の薄膜をレーザ加工するための装置です。近年地球環境意識の高まりに伴い、薄膜型太陽電池の需要が増えています。

薄膜型太陽電池の製造には、4辺の縁部(エッジ)にレーザ光を照射し、薄膜を除去して絶縁するエッジデリーション(Edge Deletion)工程が必須であり、本装置により、このエッジデリーションの加工が高品質、高速に行えます。

また、その他の用途として、ITO膜を使用するタッチパネル等の薄膜加工などにも対応可能です。

  • 薄膜の4方面のエッジをカットし、絶縁が可能
  • 矩形ビームで均一なスクライブ幅の加工が可能
  • 最大1,500mm2/sの剥離加工が可能

 

                                         【スクライブイメージ】           

                   

 


搭載レーザ装置 YAG基本波(1,064nm)、最大200W加工機
ビーム・サイズ 最大600μm

 

ウエハレベルCSPの各チップに対して、文字等のIDのマーキングを行う装置です  

  • SHGレーザにより、回路へのダメージを抑制
  • 高精度スキャニングヘッドにより、8インチウエハへの高速一括マーキングが可能
  • ウエハの反りに対応(裏面吸着ステージ・オートフォーカス)
  • 個片対応装置の製作も可能
 

対象ウエハ

8・12インチ又は6・8インチ

マーキングの種類 ブラックマーキング、ホワイトマーキング
マーキング位置精度 ±20 - 250μm(一括マーキング範囲によります)
タクトタイム 6min(1000チップを9分割でマーキングする場合)
装置寸法 1825(W)×1085(D)×1230(H)mm(8・12インチの場合)
 

フラットパネル等の透明ガラス内面にマイクロクラックを形成し、文字・二次元コード等のIDのマーキングを行う装置です

  • マーキング直後に読み取り照合が可能
  • マルチヘッド方式により高スループット
  • 発塵の無いクリーンなマーキング
 

対象基板寸法 〜第8世代(厚み0.6mm〜)
タクトタイム 50s(G8、4面取り、2ヘッドの場合)
マーキング位置精度 200μm
上下流装置 コンベア又はロボット
装置寸法 2800(W)×11000(D)×2500(H)mm(第8世代の場合)

 

透明ガラスの表面、又は裏面に形成された薄膜をレーザにより除去し、文字・二次元コード等の

IDのマーキングを行う装置です

  • マルチヘッド方式により高スループット
  • ヘッド内蔵カメラでの高速ソフトウエアーアライメント
  • 貼り合わせ基板内部へのマーキングが可能
 

対象基板寸法 〜第8世代(厚み0.4×1〜1.1×2mm)
タクトタイム 200s(G8、30面取り、2ヘッドの場合)
マーキング位置精度 80μm
上下流装置 コンベア又はロボット
装置寸法 3000(W)×6500(D)×3000(H)mm(第8世代の場合)
 

ガラス又はフィルム上に形成された薄膜を、レーザにより除去する装置です

  • リワインダユニットを装着する事により、リール状フィルムへの対応が可能
  • 高精度スキャナーとステージの組み合わせで精度とタクトを両立
 

対象基板寸法 ガラス基板又はフィルム
適用レーザ 基本波、SHG、THG
マーキング位置精度 30μm
上下流装置 ロボット又はリールユニット
装置寸法 3000(W)×1400(D)×2250(H)mm
 

モータの供給から抵抗溶接機によるヒュージング、モータの搬出まで、一連の工程を

全自動で行なう装置です

  • モータの供給からヒュージング後の搬出までの完全自動化が可能
  • 加圧力と溶け込み量を制御し、安定したヒュージングが可能
  • セグメント毎に加工条件(電流・電圧・通電時間・加圧力・溶け込み量)の保存が可能
 

対象モータ寸法 コア径ø30mm以上のモータ
タクト 78s(30セグメントの場合)
上下流装置 ロボット
装置寸法 1000(W)×700(D)×1600(H)mm
※これら装置はごく一例です。お客様の仕様に合わせたシステムの製作が可能です
ページTOPへ